晶體硅是一種重要的非金屬材料，有科學家認為硅是“21世紀的能源”、“未來的石油”。
（1）工業上生產純硅的工藝流程如圖：
石英砂的主要成分是SiO2在制備粗硅時，焦炭的作用是還原劑還原劑（填“氧化劑“或“還原劑“）：在該反應中，若消耗了3.0gSiO2，則轉移電子的總數為1.204×10231.204×1023。
（2）某實驗室利用SiHCl3（沸點33.0℃）與過量H2在1000℃～l100℃反應制得純硅。已知SiHCl3能與H2O強烈反應，在空氣中易自燃。裝置如圖所示（熱源及夾持裝置略去）。 
①裝置B中的試劑是濃硫酸濃硫酸。裝置C中的燒瓶需要加熱。其目的是使SiHCl3氣化，與氫氣反應使SiHCl3氣化，與氫氣反應。
②反應一段時間后，裝置D中觀察到的現象是有固體物質生成有固體物質生成；裝置D中發生反應的化學方程式為SiHCl3+H2 高溫 Si+3HClSiHCl3+H2 高溫 Si+3HCl。
③為檢驗產品硅中是否含微量鐵單質，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需要加入的試劑有bdbd（填字母）。
a.碘水 b.氯水 c.Na2SO3溶液 d.KSCN溶液
高溫
高溫
【答案】還原劑；1.204×1023；濃硫酸；使SiHCl3氣化，與氫氣反應；有固體物質生成；SiHCl3+H2 Si+3HCl；bd
高溫
【解答】
【點評】
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