當(dāng)前位置:
知識(shí)點(diǎn)挑題
請(qǐng)展開(kāi)查看知識(shí)點(diǎn)列表
>
<
更多>>
![]() |
期末復(fù)習(xí)
典型試卷
考前必刷
瀏覽次數(shù):376
更新:2025年06月03日
|
![]() |
熱點(diǎn)預(yù)測(cè)
高考復(fù)習(xí)
難題搶練
瀏覽次數(shù):862
更新:2025年05月26日
|
2751.短周期主族元素W、X、Y、Z的原子序數(shù)依次增大,W、Y同主族,兩種元素能形成兩種常見(jiàn)化合物;X的簡(jiǎn)單離子半徑是同周期簡(jiǎn)單離子中最小的。下列說(shuō)法正確的是( )
A.原子半徑:W<Y<Z<X B.X分別與W、Z形成的化合物中化學(xué)鍵類型相同 C.X、Y的簡(jiǎn)單離子均能影響水的電離 D.Z單質(zhì)有漂白性能使石蕊溶液褪色 發(fā)布:2024/12/27 4:0:3組卷:67引用:3難度:0.62752.化學(xué)與生活、生產(chǎn)關(guān)系密切。下列說(shuō)法正確的是( )
A.《本草經(jīng)集注》中“火燒硝石有紫青煙”的描述說(shuō)明硝石中一定含有鉀元素 B.外加電流的陰極保護(hù)法適宜選擇惰性電極作輔助陰極 C.多糖、油脂、蛋白質(zhì)均是在體內(nèi)先水解再氧化而為人體提供能量 D.SiO2和C60兩種化合物均屬于新型無(wú)機(jī)非金屬材料 發(fā)布:2024/12/27 4:0:3組卷:91引用:2難度:0.52753.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問(wèn)題:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ/mol
SiHCl3(g)+HCl(g)═SiCl4(g)+H2(g)△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑,遇水能得到無(wú)色溶液并劇烈分解釋放出H2,請(qǐng)寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的最佳措施是
(4)比較a、b處反應(yīng)速率的大小:va
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)=k1k2
(5)硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3,室溫下,0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液,堿性更強(qiáng)的是
已知:H2SiO3:Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12,H2CO3:Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:61引用:2難度:0.22754.水煤氣變換[CO( g))+H2O(g)═CO2( g)+H2( g)]是重要的化工過(guò)程,主要用于合成氨、制氫以及合成氣加工等工業(yè)領(lǐng)域中。
Shoichi研究了467℃,489℃時(shí)水煤氣變換中CO和H2分壓隨時(shí)間變化關(guān)系(如圖甲所示),催化劑為氧化鐵,實(shí)驗(yàn)初始時(shí)體系中的和 pCO相等、pCO2和pH2O相等。pH2
計(jì)算曲線a的反應(yīng)在30~90min 內(nèi)的平均速率(a)=v
(2)對(duì)于反應(yīng)2SiHCl3(g)═SiH2Cl2(g)+SiCl4( g),采用大孔弱堿性陰離子交換樹(shù)脂催化劑,在323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖乙所示:
比較a、b處反應(yīng)速率大小:va=v正v逆發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:10引用:3難度:0.62755.對(duì)于反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g),采用大孔弱堿性陰離子交換樹(shù)脂催化劑,在323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示。
比較A、B處反應(yīng)速率大小:vA
反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),計(jì)算A處的=v正v逆發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:12引用:1難度:0.62756.在催化劑作用下,可逆反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示(已知:反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是( )
A.343K時(shí),反應(yīng)的平衡轉(zhuǎn)化率為22% B.343K時(shí),反應(yīng)的平衡常數(shù)約為0.02 C.343K時(shí),提高反應(yīng)物壓強(qiáng)或濃度可縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間 D.a(chǎn)處的 =1.1,且a處的反應(yīng)速率大于b處的反應(yīng)速率v正v逆發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:40引用:1難度:0.52757.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問(wèn)題:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
①Si(s)+4HCl(g)═SiCl4( g)+2H2(g)△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 (g)+HCl(g)═SiCl4 (g)+H2(g)△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
③比較a、b處反應(yīng)速率的大小:va=k1k2發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:19引用:1難度:0.52758.三氯氫硅( SiHCl3)是制備硅烷、多晶硅的重要原料。回答下列問(wèn)題:
對(duì)于反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)ΔH>0,采用大孔弱堿性陰離子交換樹(shù)脂催化劑,在323K和343K時(shí)SHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示。
(1)343K時(shí)反應(yīng)的平衡轉(zhuǎn)化率a=
(2)在343K下:要提高 SiHCl3轉(zhuǎn)化率,可采取的措施是
(3)比較a、b處反應(yīng)速率大小:va,v正=k正x2SiHCl3,v逆=k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),計(jì)算a處k正k逆=a正a負(fù)發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:47引用:7難度:0.52759.已知:2SiHCl3(g)=SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)△H=Q kJ?mol-1,其平衡常數(shù)隨溫度變化如下表所示:
溫度/k 323 343 400 平衡常數(shù) 0.01 0.02 1
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)該反應(yīng)的Q
(2)代表323K曲線的是
(3)在400K下,要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的措施有
(4)已知2SiHCl3(g)═SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)的反應(yīng)速率v=v正-v逆,其中v正=k正x2SiHCl3,v逆=k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),計(jì)算a處=v正v逆
(5)T K時(shí)在體積為10 L的反應(yīng)器中,通入一定量的SiH2Cl2(g)和SiCl4(g),發(fā)生上述反應(yīng),SiH2Cl2(g)和SiCl4(g)濃度變化如圖所示,則0~4 min時(shí)平均反應(yīng)速率v(SiCl4(g))=發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:10引用:1難度:0.72760.SiHCl3在催化劑作用下主要發(fā)生反應(yīng):2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)△H=+48 kJ?mol-1.已知:反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),在323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示。下列說(shuō)法正確的是( )
A.343K時(shí)反應(yīng)物的平衡轉(zhuǎn)化率為21% B.a(chǎn)點(diǎn)的反應(yīng)速率小于b點(diǎn)的反應(yīng)速率 C.343K時(shí) =k正k_逆0.1120.782D.由323K的平衡轉(zhuǎn)化率數(shù)據(jù),不能計(jì)算323K的平衡常數(shù)K 發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:259引用:6難度:0.2
