硅單質及其化合物應用范圍很廣．請回答下列問題：
制備硅半導體材料必須先得到高純硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如圖所示：
（1）寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式：SiHCl3+H2 高溫 Si+3HClSiHCl3+H2 高溫 Si+3HCl．
（2）整個制備過程必須嚴格控制無水無氧．SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式：SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑；
H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是氧氣與氫氣混合，可能引起爆炸氧氣與氫氣混合，可能引起爆炸．
高溫
高溫
【考點】硅的性質及用途；二氧化硅的性質及用途．
【答案】SiHCl3+H2 Si+3HCl；SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑；氧氣與氫氣混合，可能引起爆炸
高溫
【解答】
【點評】
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發布：2024/6/27 10:35:59組卷：106引用：2難度：0.9