銅質電路板可采用酸性蝕刻與堿性蝕刻兩種方法,將二者的廢液混合可實現回收再利用,其主要流程如圖。

已知:①水合肼N2H4?H2O具有強還原性,易被氧化為N2。
②Cu2++4NH3?Cu(NH3)42+
(1)蝕刻
①將酸性蝕刻銅的離子方程式補充完整:
Cu+11H2O2+44Cl-Cl-+22H+H+?CuCl42-+22H2OH2O。
②關于蝕刻的下列說法正確的是 ACAC。
A.堿性蝕刻和酸性蝕刻分別利用了O2、H2O2的氧化性
B.酸性蝕刻時鹽酸的主要作用是增強溶液的酸性
C.用H2O2、H2SO4、NaCl也可以使Cu溶解
(2)濾液1的pH約為5,其中除少量Cu2+,還大量存在的離子是 NH4+、Cl-NH4+、Cl-。
(3)除銅
①利用水合肼N2H4?H2O還原Cu2+的離子方程式是 N2H4?H2O+2Cu2++4OH-=2Cu↓+N2↑+5H2ON2H4?H2O+2Cu2++4OH-=2Cu↓+N2↑+5H2O。
②已知該反應瞬間完成,濾渣成分只有Cu。測得銅去除率、水合肼還原能力隨溶液pH的變化情況如圖所示。由圖可知,隨溶液pH增大,銅去除率先增加后減小,結合圖給信息和已知信息分析其原因:pH<6.3時,pH增大,N2H4?H2O還原性增強,銅的去除率升高;pH>6.3時,pH增大,NH4+與OH-結合生成NH3,發生副反應Cu2++4NH3?Cu(NH3)42+,因此銅去除率降低pH<6.3時,pH增大,N2H4?H2O還原性增強,銅的去除率升高;pH>6.3時,pH增大,NH4+與OH-結合生成NH3,發生副反應Cu2++4NH3?Cu(NH3)42+,因此銅去除率降低。

【考點】物質分離和提純的方法和基本操作綜合應用.
【答案】1;4;Cl-;2;H+;2;H2O;AC;NH4+、Cl-;N2H4?H2O+2Cu2++4OH-=2Cu↓+N2↑+5H2O;pH<6.3時,pH增大,N2H4?H2O還原性增強,銅的去除率升高;pH>6.3時,pH增大,NH4+與OH-結合生成NH3,發生副反應Cu2++4NH3?Cu(NH3)42+,因此銅去除率降低
【解答】
【點評】
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發布:2024/6/27 10:35:59組卷:22引用:2難度:0.5
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