在冶金工業中，常以C作為還原劑，如溫度高于980 K時，氧化產物以CO為主，低于980 K時以CO2為主。
（1）已知2CO（g）?CO2（g）+C（s），T=980 K時△H-T△S=0。當體系溫度低于980 K時，估計△H-T△S 小于小于0（選填“大于”、“小于”或“等于”）；當體系溫度高于980 K時，該反應 不能不能自發進行（填“能”或“不能”）。
（2）電子工業中清洗硅片上的SiO2（s）的反應為：SiO2（s）+4HF（g）═SiF4（g）+2H2O（g）
△H（298.15 K）=-94.0 kJ?mol-1
△S（298.15 K）=-75.8 J?mol-1?K-1。
設△H和△S不隨溫度變化而變化，則此反應自發進行的溫度是 小于1240K小于1240K。
【考點】化學反應的方向．
【答案】小于；不能；小于1240K
【解答】
【點評】
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發布：2024/4/20 14:35:0組卷：101引用：6難度：0.7