光刻技術是現代半導體集成電路的關鍵一環，其工作原理如圖所示。光源發出強紫外光，調整鏤空掩膜版和縮圖透鏡之間的距離，使光通過二者后，恰好能在硅片上成清晰的像，從而實現納米級集成電路的“雕刻”，下列說法錯誤的是（　　）

A．縮圖透鏡是凸透鏡

B．在硅片上形成的像是實像

C．此成像原理與照相機相似

D．為使硅片上所成的像更小一些，應將掩膜版靠近縮圖透鏡

【答案】D

【解答】

【點評】

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發布：2024/5/27 14:0:0組卷：157引用：1難度：0.7

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發布：2025/1/1 7:0:7組卷：171引用：3難度：0.8
解析
2．如右圖所示，手機鏡頭成縮小的像，其成像特點與下列儀器相同的是（　　）
A．幻燈機 B．潛望鏡 C．放大鏡 D．照相機
發布：2024/12/30 16:30:5組卷：77引用：1難度：0.6
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3．某物體放在離凸透鏡20cm處，無論怎樣移動光屏，光屏上始終得不到像，則該凸透鏡的焦距可能是（　　）
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