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          Ⅰ.硅單質及其化合物用途廣泛,請回答下列問題:
          (1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生
          產過程示意圖如圖:

          寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式:
          SiHCl3+H2
          1357
          K
          Si+3HCl
          SiHCl3+H2
          1357
          K
          Si+3HCl

          (2)在人體器官受到損傷時,需要使用一種新型無機非金屬材料來植入體內,這種材料是
          B
          B
          (填序號)。
          A.高溫結構陶瓷
          B.生物陶瓷
          C.導電陶瓷
          Ⅱ.某校化學興趣小組按如圖所示裝置進行實驗,驗證木炭與濃硫酸反應放出的氣體是SO2、CO2和少量CO。回答下列問題:

          (1)連接裝置后,先進行的操作是
          檢查裝置的氣密性
          檢查裝置的氣密性
          ;儀器a的名稱為
          圓底燒瓶
          圓底燒瓶

          (2)洗氣瓶①②中溶液褪色,體現的二氧化硫的性質依次為
          B
          B
          (填序號)。
          A.氧化性、還原性
          B.漂白性、還原性
          C.漂白性、氧化性
          D.還原性、漂白性
          (3)洗氣瓶②中酸性高錳酸鉀溶液不能用足量的新制氯水代替的原因是
          氯水中的Cl2分子會隨著CO2進入洗氣瓶③,使③中的品紅褪色
          氯水中的Cl2分子會隨著CO2進入洗氣瓶③,使③中的品紅褪色

          (4)上述實驗證明木炭與濃硫酸反應放出的氣體中有少量CO的實驗現象是
          洗氣瓶⑤中有部分液體被排入⑥中
          洗氣瓶⑤中有部分液體被排入⑥中

          【答案】SiHCl3+H2
          1357
          K
          Si+3HCl;B;檢查裝置的氣密性;圓底燒瓶;B;氯水中的Cl2分子會隨著CO2進入洗氣瓶③,使③中的品紅褪色;洗氣瓶⑤中有部分液體被排入⑥中
          【解答】
          【點評】
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          發布:2024/6/27 10:35:59組卷:24引用:1難度:0.7
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            發布:2024/12/30 7:30:1組卷:190引用:5難度:0.7
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